光催化系统的特征及工艺参数

光催化系统的特征及工艺参数

下面小编给大家介绍一下光催化系统的特征及工艺参数。

光催化系统的特征

非真空性：在常温常压下实现光解制氢；

简单易行，不漏气：配套设备少，操作和维护容易。不需复杂安装的真空玻璃管道。没有阀，没有气体泄漏；

重现性好：直接测量气体产生量(气体产生率)，避免了传统装置由于气体循环不畅造成的测量误差，实验重现性更好；

高量程：测定收率可达800mmol/g/h，适用于研究不同收率的催化剂体系；

自动测量：RTKGMC技术，能实时自动记录测量数据，不需GC，无校准误差；

不需计算：避免传统装置的氢气产量计算误差，直接测量氢气产量(或质量、氢气产量)即可；

模拟工业环境：非真空环境更接近实际工业环境，可探索工业环境下光解水制氢；

多通道：可以根据客户的研究需求，定制适合于平行实验的多通道装置。

光催化系统的工艺参数

工作环境：一是常温常压；

测量技术：GMC技术；

测量精度：0.0350毫升/秒；

测量范围：0-800mol/g/h；

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