光催化系统原理和光催化特性

光催化系统光催化原理：

(1)采用新型复合纳米高科技功能材料。

(2)这是一种低温深度反应技术。光催化剂纳米颗粒在一定波长的光照下受到刺激，形成电子空穴对。空穴分解催化剂表面吸附的水，产生氢氧自由基。电子将周围的氧还原为活性离子氧，因此它们具有很强的氧化还原作用，破坏光催化剂表面的各种污染物。

光催化系统光催化特性：

(1)低温深度反应：

光催化氧化可以在室温下将水、空气和土壤中的有机污染物完全氧化成无毒无害的物质。传统的高温焚烧技术需要在极高的温度下破坏污染物，即使用传统的催化氧化方法也需要数百度的高温。

(2)彻底净化：

它直接将空气中的有机污染物完全氧化成无毒无害的物质，不留下任何二次污染。目前，广泛使用的活性炭吸附方法不会分解污染物，只会转移污染源。

(3)绿色能源：

光催化可以利用阳光作为激活光催化剂的能量，驱动氧化还原反应，光催化剂在反应过程中不会被消耗。从能量的角度来看，这一特性使光催化技术更具吸引力。

(4)强氧化性：

大量研究表明，半导体光催化具有氧化性强的特点，可有效分解一些难以氧化臭氧的有机物质，如三氯甲烷、四氯化碳和六氯苯，因此对难以降解的有机物具有特殊意义。光催化的有效氧化剂是羟基自由基（HO），HO臭氧、过氧化氢、高锰酸钾、次氯酸等。

以上就是今日小编为大家介绍的光催化系统，感谢大家耐心地阅读！