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光催化系统的特征及工艺参数
2021-01-25

光催化系统的特征及工艺参数

下面小编给大家介绍一下光催化系统的特征及工艺参数。

光催化系统的特征


非真空性:在常温常压下实现光解制氢;


简单易行,不漏气:配套设备少,操作和维护容易。不需复杂安装的真空玻璃管道。没有阀,没有气体泄漏;


重现性好:直接测量气体产生量(气体产生率),避免了传统装置由于气体循环不畅造成的测量误差,实验重现性更好;


高量程:测定收率可达800mmol/g/h,适用于研究不同收率的催化剂体系;


自动测量:RTKGMC专利技术,能实时自动记录测量数据,不需GC,无校准误差;


不需计算:避免传统装置的氢气产量计算误差,直接测量氢气产量(或质量、氢气产量)即可;


模拟工业环境:非真空环境更接近实际工业环境,可探索工业环境下光解水制氢;


多通道:可以根据客户的研究需求,定制适合于平行实验的多通道装置。


光催化系统的工艺参数


工作环境:一是常温常压;


测量技术:GMC专利技术;


测量精度:0.0350毫升/秒;


测量范围:0-800mol/g/h;


感谢大家耐心的阅读完光催化系统小编分享的文章,如果有需要了解更多光催化系统和光催化装置的相关知识,欢迎联系我们,镁瑞臣24小时竭诚为您服务!


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